Orion NanoFab

Avec l'ORION NanoFab, Zeiss s'engage dans une toute nouvelle voie: à la place des électrons, on utilise des ions d'hélium ou de néon pour imager ou traiter les surfaces. Si le système est complété par une colonne d'ions de gallium supplémentaire, on obtient un outil de fabrication et de structuration unique.

Grâce à l'incroyable finesse du faisceau d'ions et aux différentes interaction avec l'échantillon, des résultats étonnants sont disponibles avec une sensibilité de surface extrême.

Créez rapidement et précisément des nanostructures de moins de 10 nm.

Utiliser le faisceau de néons, pour traiter les nanostructures avec une grande de traiter rapidement et à haut débit.
Utiliser le jet d'hélium pour fabriquer des structures inférieures à 10 nm.
Utilisez le FIB au gallium en option pour l'enlèvement de matériau massif.