Orion NanoFab

Mit dem ORION NanoFab geht Zeiss ganz neue Wege: anstelle von Elektronen werden Helium- oder Neon Ionen verwendet, um Oberflächen abzubilden oder zu bearbeiten. Wird das System mit einer zusätzlichen Gallium- Ionensäule ergänzt, entsteht ein einzigartiges Fabrikations- und Strukturierungstool.

Durch den unglaublich feinen Ionenstrahl und der unterschiedlichen Interaktion mit der Probe sind verblüffende Resultate mit einer extremen Oberflächensensitivität erhältlich.

Erstellen Sie schnell und präzise Nanostrukturen unter 10 nm.

Verwenden Sie den Neonstrahl, um Nanostrukturen mit grosser Schnelligkeit und hohem Durchsatz zu bearbeiten.
Verwenden Sie den Heliumstrahl zur Herstellung empfindlicher Strukturen unter 10 nm.
Verwenden Sie das optionale Gallium-FIB zur Abtragung von massivem Material.