Focused Ion Beam

In den CrossBeam Geräten von Zeiss wird eine Elektronensäule (SEM) mit einer Ionenstrahlsäule (FIB) kombiniert, um neben reiner Abbildung auch mit Gallium Ionen in die Tiefe schneiden zu können. Mittels Öffnen der Oberfläche gewinnen Sie Information aus der Tiefe in Nanometerauflösung!

Durch eine automatisierte Abfolge von Schneiden und Bilderzeugung mit anschliessender Rekonstruktion werden dreidimensionale Tomographien erzeugt – eine hervorragende Methode nicht nur in der Biologie, sondern in einem breiten Spektrum von Anwendungen in der Materialforschung.

Mit dem ORION NanoFab geht Zeiss ganz neue Wege: anstelle von Elektronen werden Helium- oder Neon Ionen verwendet, um Oberflächen abzubilden oder zu bearbeiten. 

Wird das System mit einer zusätzlichen Gallium-Ionensäule ergänzt, entsteht ein einzigartiges Fabrikations- und Strukturierungstool. Durch den unglaublich feinen Ionenstrahl und der unterschiedlichen Interaktion mit der Probe sind verblüffende Resultate mit einer extremen Oberflächensensitivität erhältlich.